为规范部分有源产品的注册申报和技术审评,国家药监局器审中心组织制修定了《正电子发射磁共振成像系统注册审查指导原则》等4项注册审查指导原则,现予发布。
特此通告。
附件:1.正电子发射磁共振成像系统注册审查指导原则(下载)
2.单光子发射X射线计算机断层成像系统注册审查指导原则(下载)
3.呼吸机注册审查指导原则(2023年修订版)(下载)
4.一氧化氮治疗仪注册审查指导原则(下载)
医疗器械技术审评中心
2024年2月5日
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2024-02-06
2024年第8号
指导原则
中国
现行有效
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国家药品监督管理局、医疗器械技术审评中心
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