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【ChiCTR2200062337】后牙区窄种植体种植修复失败风险因素的回顾性研究

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基本信息
登记号

ChiCTR2200062337

试验状态

尚未开始

药物名称

/

药物类型

/

规范名称

/

首次公示信息日的期

2022-08-02

临床申请受理号

/

靶点

/

适应症

牙列缺损

试验通俗题目

后牙区窄种植体种植修复失败风险因素的回顾性研究

试验专业题目

后牙区窄种植体种植修复失败风险因素的回顾性研究

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临床试验信息
试验目的

窄种植体一般认为是直径小于等于3.5mm的种植体。良好的存留率和修复效果促使窄种植体逐渐应用于骨量不足或近远中距离间隙不足的后牙区。然而，较窄的直径会造成悬臂较长、对牙槽嵴的应力较大等问题，可能造成并发症的增多。因此，本研究拟通过大样本量的病历资料和回访的回顾性研究来全面探索后牙区窄种植体种植修复失败的风险因素。种植体直径、长度、型号和存留情况、患者基本信息、手术相关因素和修复相关因素将通过病历资料和患者随访获得。该研究拟通过对潜在风险因素的分析，总结可参考的循证医学证据，为窄种植体在后牙区的安全应用提供参考。

试验分类
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试验类型

横断面

试验分期

回顾性研究

随机化

该回顾性研究纳入从1996年11月至2022年3月在武汉大学口腔医院在后牙区植入窄植体的所有患者，不涉及随机分组。

盲法

该研究为病例资料的回顾性研究，不涉及盲法。

试验项目经费来源

武汉大学口腔医院科研启动经费

试验范围

/

目标入组人数

2000

实际入组人数

/

第一例入组时间

2022-08-01

试验终止时间

2023-07-31

是否属于一致性

/

入选标准

拟纳入1996年11月至2022年3月于武汉大学口腔医院种植科接受后牙区窄种植体（直径小于等于3.5mm）一期手术的患者。；

排除标准

术中植入失败、只行骨增量而未植入种植体、基本信息不全的患者。；

研究者信息
研究负责人姓名
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试验机构

武汉大学口腔医院

研究负责人电话
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研究负责人邮箱
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研究负责人邮编

430079

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